概覽

SilcoNert®2000是非晶硅的化學(xué)保護(hù)屏障，其進(jìn)一步官能化以提供可用的最惰性表面。通過(guò)應(yīng)用化學(xué)氣相沉積（CVD），SilcoNert®2000非常適用于硫化物，汞，氨或其他活性化合物的痕量級(jí)測(cè)試精度（<百萬(wàn)分之一）。

特色與優(yōu)勢(shì)

•非視距工藝；所有孔和復(fù)雜的幾何形狀都能被涂層

•消除吸附和再測(cè)試

•獲得更快的校準(zhǔn)

•對(duì)結(jié)果充滿(mǎn)信心

SilcoNert® 2000 規(guī)格

基板兼容性*：      SS合金，陶瓷，玻璃，鈦及大多數(shù)特殊金屬，TIG / MIG焊 接、真空鎳釬焊區(qū)域

允許溫度范圍*：      -210°C ~ + 450°C（惰性氣體），400°C（氧化性氣體）

標(biāo)準(zhǔn)厚度：         100-500 nm

允許接觸的pH值 ：      0-8

潤(rùn)滑性（摩擦系數(shù)）：   0.7

疏水性（接觸角）：     80°

耐磨性(盤(pán)上針?lè)y(cè)試磨損率)：14.00（304不銹鋼：13.81）